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三甲基硅醇的气相沉积（CVD）工艺

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三甲基硅醇的气相沉积（CVD）工艺

在半导体和光学涂层工业中，三甲基硅醇可作为化学气相沉积（CVD）的前驱体，用于制备二氧化硅（SiO₂）薄膜。这类薄膜用于集成电路的绝缘层或光学器件的抗反射涂层。

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